不用光刻机,若何制作5nm芯片?
最近,光刻芯片圈儿又有大往事了 。何制
佳能搞出了个新的不用芯片制作配置装备部署,不用光刻技术,光刻就能造 5nm 的何制芯片 。
而且说是不用再优化优化 , 2nm 制程也不是光刻啥大下场。
这可先把一众网友们搞懵圈儿了,何制佳能奈何样欠好好造相机 ,不用跑进去搞造芯片的光刻机械了 ?
而且一动手便是 5nm 、 2nm 的何制。
而这 ,不用差评君就不患上不先帮佳能找补多少句了,光刻并不断以来 ,何制佳能在芯片制作配置装备部署上都有妄想 ,隔邻的尼康也是一个样。
不外当初光刻机的顶尖技术不断都被 ASML 独占 ,佳能眼看追不上 ,于是在钻研光刻机的同时 ,又找了另一条赛道:纳米压印 。
这次往事的主角,也正是这个 “ 纳米压印 ” 技术 ,反正新闻一出,吃瓜公共们的反映是最冷落的。
像是甚么“ 光刻机即将被取代,纳米压印战未来 ” “ ASML 这下要慌了,被换赛道超车了 ” 。 。 。种种品评辩说看患上人一片沸腾,彷佛光刻机这玩意儿 ,之后只能在废品接管站里看到了似的 。
差评君也去简陋清晰了一下,却发现使命比想象中的重大,且幽默。
首先这些年来 ,光刻机的睁开已经逐渐走到一个瓶颈期,芯片制程的后退速率,也肉眼可见患上变慢。
不比力就不伤害,反不雅睁开至今才二十多年的纳米压印技术,却是一个 “ 快 ” 字了患上 ,噌噌多少年就快要遇上光刻机的进度了 。
比力上个世纪五十年月起步的光刻技术,速率直接翻了一倍多。
而且 ,新的纳米压印技术以及光刻机比照,不光老本也降了